在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)競(jìng)爭(zhēng)日益激烈的背景下，美國(guó)商務(wù)部近期更新了出口管制條款，這是對(duì)《芯片法案》后的又一重大調(diào)整。本次更新針對(duì)的是芯片制造核心技術(shù)和設(shè)備，包括但不限于EUV掩膜、刻蝕機(jī)等，同時(shí)對(duì)AI芯片許可證及其例外情況進(jìn)行了重新澄清。此舉意在限制中國(guó)大陸半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，尤其是阻斷其向先進(jìn)工藝技術(shù)的跨越。

此次出口管制更新中，澳門(mén)地區(qū)被頻繁提及，與2023年10月的規(guī)則一致，采取了對(duì)澳門(mén)及D:5組地區(qū)（涵蓋中國(guó)大陸、伊朗、俄羅斯等）"推定拒絕”策略。這意味著，除非有特殊理由，否則向這些地區(qū)出口受控AI芯片的申請(qǐng)將默認(rèn)被拒絕。D:5組地區(qū)是美國(guó)出口管制中的一個(gè)分類(lèi)，表示對(duì)這些國(guó)家和地區(qū)的出口、再出口或轉(zhuǎn)移受到嚴(yán)格限制。

更新中引入了名為"授權(quán)的先進(jìn)算力”許可證豁免，為某些情況下的出口提供了一定的便利。具體來(lái)說(shuō)，對(duì)非D:4、D:5組別的國(guó)家和地區(qū)出口某些AI相關(guān)產(chǎn)品，在滿足特定條件下不需要額外的許可證。

(1) 光刻機(jī)：本次更新加強(qiáng)了對(duì)EUV掩膜和相關(guān)設(shè)備的管控，將"國(guó)家安全”和"區(qū)域穩(wěn)定”作為新增的管控原因，對(duì)澳門(mén)地區(qū)、D:5國(guó)家和地區(qū)的出口、再出口等行為實(shí)施更嚴(yán)格的許可要求。
(2) RTX4090：針對(duì)消費(fèi)級(jí)AI芯片，如RTX4090，更新條款明確了性能密度的計(jì)算方式和閾值，為某些高性能芯片的出口提供了明確的指引。
(3) AIPC：對(duì)于AI處理芯片（AIPC），更新條款提供了更清晰的適用范圍和例外情況，使得企業(yè)在出口這類(lèi)產(chǎn)品時(shí)有更明確的依據(jù)。

美國(guó)此次出口管制更新的主要目的是限制中國(guó)在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中獲取先進(jìn)技術(shù)和設(shè)備，尤其是那些可用于軍事和高級(jí)計(jì)算的關(guān)鍵技術(shù)。通過(guò)這種方式，美國(guó)希望保持其在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中的技術(shù)領(lǐng)先地位，同時(shí)出于國(guó)家安全的考慮，防止先進(jìn)技術(shù)落入潛在對(duì)手手中。

面對(duì)這種情況，中國(guó)企業(yè)和研究機(jī)構(gòu)需要采取多項(xiàng)對(duì)策：

(1) 加強(qiáng)自主研發(fā)：提高自主研發(fā)能力，減少對(duì)外部先進(jìn)技術(shù)和設(shè)備的依賴(lài)。
(2) 多元化進(jìn)口來(lái)源：探索其他國(guó)家和地區(qū)的技術(shù)合作與設(shè)備采購(gòu)，降低對(duì)單一來(lái)源的依賴(lài)。
(3) 合法合規(guī)：嚴(yán)格遵守美國(guó)的出口管制規(guī)定，通過(guò)合法渠道進(jìn)行技術(shù)和設(shè)備的引進(jìn)。
(4) 國(guó)際合作：加強(qiáng)與國(guó)際合作伙伴的溝通，共同應(yīng)對(duì)美國(guó)的技術(shù)封鎖，尋找替代技術(shù)路徑。

美國(guó)的出口管制更新反映了其在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)競(jìng)爭(zhēng)中的戰(zhàn)略考量，盡管管制程度有所調(diào)整，但其根本目的并未改變。中國(guó)企業(yè)需要密切關(guān)注后續(xù)發(fā)展，靈活調(diào)整戰(zhàn)略，加強(qiáng)自主技術(shù)研發(fā)，以應(yīng)對(duì)不斷變化的國(guó)際貿(mào)易環(huán)境。